Tetrachlorid hafnium | Prášek HFCL4 | CAS 13499-05-3 | tovární cena

Krátký popis:

Tetrachlorid hafnia má důležité aplikace jako prekurzor oxidu hafnia, katalyzátor pro organickou syntézu, jaderné aplikace a depozici tenkého filmu, což zdůrazňuje její všestrannost a význam v různých technologických oborech.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Pošlete nám e -mail

Detail produktu

Značky produktů

Popis produktu

Krátký úvod

Název produktu: tetrachlorid hafnia
CAS NO.: 13499-05-3
Složený vzorec: HFCL4
Molekulová hmotnost: 320.3
Vzhled: Bílý prášek

Specifikace

Položka	Specifikace
Vzhled	Bílý prášek
HFCL4+ZRCL4	≥ 99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤ 40 ppm
Ti	≤ 20ppm
Si	≤ 40 ppm
Mg	≤ 20ppm
Cr	≤ 20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤ 60 ppm

Aplikace

Prekurzor oxidu hafnia: Tetrachlorid hafnia se primárně používá jako prekurzor k výrobě oxidu hafnia (HFO2), materiálu s vynikajícími dielektrickými vlastnostmi. HFO2 se široce používá ve vysoko-K dielektrických aplikacích pro tranzistory a kondenzátory v polovodičovém průmyslu. HFCL4 je nezbytný při výrobě pokročilých elektronických zařízení kvůli jeho schopnosti vytvářet tenké filmy oxidu hafnia.
Katalyzátor organické syntézy: Tetrachlorid hafnia lze použít jako katalyzátor pro různé reakce organické syntézy, zejména olefinové polymerace. Jeho vlastnosti Lewisovy kyseliny pomáhají vytvářet aktivní meziprodukty, čímž se zlepšuje účinnost chemických reakcí. Tato aplikace je cenná při výrobě polymerů a dalších organických sloučenin v chemickém průmyslu.
Jaderná aplikace: Vzhledem k průřezu absorpce s vysokým obsahem neutronů se tetrachlorid hafnia široce používá v jaderných aplikacích, zejména v kontrolních tyčích jaderných reaktorů. Hafnium může účinně absorbovat neutrony, takže je to vhodný materiál pro regulaci procesu štěpení, což pomáhá zlepšit bezpečnost a účinnost výroby jaderné energie.
Depozice tenkého filmu: Tetrachlorid hafnia se používá v procesech chemické depozice par (CVD) k vytvoření tenkých filmů materiálů na bázi hafnia. Tyto filmy jsou nezbytné v různých aplikacích, včetně mikroelektroniky, optiky a ochranných povlaků. Schopnost ukládat uniformní, vysoce kvalitní filmy činí HFCL4 cenným v pokročilých výrobních procesech.