Tetrachlorid hafnia | Prášek HfCl4 | CAS 13499-05-3 | výrobní cena

Stručný popis:

Tetrachlorid hafničitý má důležité uplatnění jako prekurzor oxidu hafnia, katalyzátor pro organickou syntézu, jaderné aplikace a nanášení tenkých vrstev, což zdůrazňuje jeho všestrannost a význam v různých technologických oblastech.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Pošlete nám e-mail

Detaily produktu

Štítky produktů

Popis produktu

Stručný úvod

Název produktu: Chlorid hafnia
Číslo CAS: 13499-05-3
Vzorec sloučeniny: HfCl4
Molekulová hmotnost: 320,3
Vzhled: Bílý prášek

Specifikace

Položka	Specifikace
Vzhled	Bílý prášek
HfCl4+ZrCl4	≥99,9 %
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Aplikace

Prekurzor oxidu hafniaTetrachlorid hafničitý se používá především jako prekurzor pro výrobu oxidu hafnia (HfO2), materiálu s vynikajícími dielektrickými vlastnostmi. HfO2 se široce používá v dielektrických aplikacích s vysokým dielektrickým bodem k pro tranzistory a kondenzátory v polovodičovém průmyslu. HfCl4 je nezbytný při výrobě pokročilých elektronických zařízení díky své schopnosti vytvářet tenké filmy oxidu hafnia.
Katalyzátor organické syntézyTetrachlorid hafničitý lze použít jako katalyzátor pro různé organické syntézní reakce, zejména polymeraci olefinů. Jeho vlastnosti Lewisovy kyseliny pomáhají tvořit aktivní meziprodukty, čímž zlepšují účinnost chemických reakcí. Tato aplikace je cenná při výrobě polymerů a dalších organických sloučenin v chemickém průmyslu.
Jaderná aplikaceDíky vysokému průřezu absorpce neutronů se tetrachlorid hafnia široce používá v jaderných aplikacích, zejména v regulačních tyčích jaderných reaktorů. Hafnium dokáže účinně absorbovat neutrony, takže je vhodným materiálem pro regulaci štěpného procesu, což pomáhá zlepšit bezpečnost a účinnost výroby jaderné energie.
Nanášení tenkých vrstevTetrachlorid hafničitý se používá v procesech chemické depozice z plynné fáze (CVD) k vytváření tenkých vrstev materiálů na bázi hafnia. Tyto vrstvy jsou nezbytné v řadě aplikací, včetně mikroelektroniky, optiky a ochranných povlaků. Schopnost nanášet rovnoměrné, vysoce kvalitní vrstvy činí HfCl4 cenným prvkem v pokročilých výrobních procesech.